Россия и Белоруссия изготовили опытный образец литографа на 130 нанометров, сообщил первый вице-премьер РФ Денис Мантуров на пленарной сессии форума "Микроэлектроника".
"Совместно с нашими белорусскими друзьями уже изготовлен опытный образец установки на 130 нанометров, причем для нее разработан собственный эксимерный лазер, что позволило России войти в узкий круг стран, владеющих этой технологией", - сказал он.
Развивается и электронно-лучевая литография, которая применяется в том числе для изготовления фотошаблонов. Для их выпуска в Зеленограде завершается создание научно-технологического центра. Как сообщил Мантуров, этот проект предусматривает поэтапное освоение топологических норм вплоть до 28 нанометровых стадий производства микросхем.
"Параллельно наращиваются компетенции в области материалов и химических продуктов. За последние три года здесь освоено производство порядка 60 критически важных позиций, еще примерно столько же наименований должны выйти в рынок в 2029 году", - добавил первый вице-премьер.
ТАССДля справки: техпроцесс 130 нм использовался в массовых процессорах Intel и AMD начала 2000-х годов, включая Pentium 4 (Northwood) и первые Athlon 64. Однако прямое сравнение не совсем уместно, так как такие нормы производства до сих пор применяются в промышленной электронике, телекоммуникационном оборудовании, системах автоматизации и других устройствах, где на первый план выходят надежность и доступность производства.
В Зеленограде завершены работы по созданию первого отечественного литографа |
_________________
Почему, когда дело касается контроля за интернетом, наши чиновники ссылаются на китайский опыт?
А если речь заходит о наказаниях за коррупцию, то о китайском опыте молчат?
|
