А.П.Менушенков и др. | Физические основы лазерной технологии (2010) [PDF]
Автор: А.П.Менушенков, В.Н.Неволин, В.Н.Петровский
Название: Физические основы лазерной технологии
Год: 2010
Издательство: НИЯУ МИФИ
ISBN: 978-5-7262-1252-4
Отрасль (жанр): Физика
Формат: PDF
Качество: Хороший скан с черно-бел. илл.
Количество страниц: 212
Описание:Целью настоящего учебного пособия является систематизация накопленных за годы развития лазерной технологии знаний и восполнение пробелов учебной литературы по современным проблемам технологических применений лазеров.В книге подробно рассматриваются физические механизмы взаимодействия лазерного излучения с металлами, полупроводниками и другими непрозрачными средами, принципы устройства лазерных технологических установок, методы фокусировки мощного лазерного излучения, особенности тех или иных лазерных технологических процессов, включая физику резонансного воздействия лазерного излучения на вещество. Учебное пособие рекомендуется студентам старших курсов и аспирантам, специализирующимся в области лазерной физики, физики конденсированного состояния, физики наноструктур и взаимодействия лазерного излучения с веществом.
Введение
Взаимодействие лазерного излучения с веществом
Классификация лазерных технологических процессов
Основные характеристики лазерного излучения
Процессы передачи энергии лазерного излучения металлам
Механизмы поглощения лазерного излучения полупроводниками и диэлектриками
Оптические свойства металлов
Пространственно-временные характеристики лазерного излучения как источника тепла
Процессы нагрева материалов при воздействии лазерного излучения
Нелинейные случаи нагрева материала лазерным излучением
Плавление и испарение материала под действием импульсов лазерного излучения
Физические свойства лазерной плазмы
Лазерные технологические системы
Структурная схема лазерных технологических установок
Энергетические оптические системы ЛТУ
Принципы фокусировки мощного лазерного излучения
Принципы компоновки энергетических оптических систем
Проекционные лазерные системы
Линзовые абберации
Оптические материалы
Лазерные технологические установки на основе твердотельных лазеров
Сравнительные характеристики активных сред твердотельных лазеров
Рубиновый лазер
Твердотельные М:УА0-лазеры с ламповой накачкой
Твердотельные лазеры с диодной накачкой
Волоконные лазеры
Лазерные технологические установки на основе С02-лазеров
Основные параметры и классификация С02- лазеров
Коэффициент полезного действия СО2-лазеров
Классификация мощных СО2-лазеров
Непрерывные СО2-лазеры с диффузионным охлаждением
Непрерывные СО2-лазеры с продольной прокачкой
Непрерывные СО2-лазеры с поперечной прокачкой (ТЕ-лазеры)
СО2-лазеры атмосферного давления с поперечным возбуждением (TEA-лазеры)
Мощные СО2-лазеры с несамостоятельным разрядом
Лазерная технология полупроводников
Классификация лазерных технологических процессов в микроэлектронике
Подготовительные операции
Очистка поверхности
Геттерирование
Основные операции
Окисление
Лазерный отжиг полупроводников после ионной имплантации
Лазерное легирование
Создание силицидов
Осаждение тонких пленок
Лазерное напыление тонких ВТСП- пленок
Завершающие операции
Лазерное скрайбирование
Маркировка
Применение лазеров в создании электронных приборов
Пайка и контроль качества соединений
Лазерная химия
Лазерная химия
Лазерное разделение изотопов
Схемы лазерного разделения изотопов
Коэффициент обогащения
Инициируемые лазером реакции
Однофотонная предиссоциация
Двухфотонная диссоциация
Фотоизомеризация
Двухступенчатая фотоионизация
Оптическое отклонение атомного пучка
Многофотонная диссоциация
Лазерное разделение изотопов в атомной энергетике
Получение особо чистых веществ
Скриншоты:
Время раздачи: с 16:00 до 24:00 Мск
